TAIWA台和精机

TAIWA台和精机 商用大米抛光机 Komec Neo G GMCA-100

TAIWA台和精机 商用大米抛光机 Komec Neo G GMCA-100TAIWA台和精机 商用大米抛光机 Komec Neo G GMCA-100特征集摩擦和研磨功能于一体的碾米机。有多座式摩擦抛光机和单座式摩擦抛光机可供选择。零残留米,有从“一粒米”到“免淘米”等多种类型可供选择。即使是难以抛光的大米也可以得到均匀的抛光。通过触摸面板可以轻松操作和调整。所需的抛光量至少为2公斤糙米。规格模

TAIWA台和精机 商用大米抛光机 Komec Neo G GMCA-100

TAIWA台和精机 商用大米抛光机 Komec Neo G GMCA-100


特征
  • 集摩擦和研磨功能于一体的碾米机。有多座式摩擦抛光机和单座式摩擦抛光机可供选择。

  • 零残留米,有从“一粒米”到“免淘米”等多种类型可供选择。

  • 即使是难以抛光的大米也可以得到均匀的抛光。

  • 通过触摸面板可以轻松操作和调整。

  • 所需的抛光量至少为2公斤糙米。

规格
模型GMCA-100
最小精米量2公斤及以上
产品尺寸宽500 x 深1335 x 高2001毫米
重量470公斤
内置电机三相200V/10.445kW
碾米能力普通精米500-600公斤/小时


免淘米450-500公斤/小时

白度调节范围26级(摩擦式抛光段)/11级(研磨式抛光段)
如何处理米糠旋风/麸皮收集器(单独出售)


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