池田屋 OTSUKA/大塚电子 显微薄膜厚度计 OPTM-A3
池田屋 OTSUKA/大塚电子 显微薄膜厚度计 OPTM-A3池田屋 OTSUKA/大塚电子 显微薄膜厚度计 OPTM-A3OTSUKA/大塚电子(Otsuka Electronics)推出的 OPTM 系列显微薄膜厚度计,型号 OPTM-A3,是一款利用显微光谱技术测量微小区域绝对反射率,从而实现对薄膜厚度和光学常数进行高精度分析的光学测量设备。该产品覆盖近红外波段,特别适用于半导体、光学镀膜及
池田屋 OTSUKA/大塚电子 显微薄膜厚度计 OPTM-A3池田屋 OTSUKA/大塚电子 显微薄膜厚度计 OPTM-A3OTSUKA/大塚电子(Otsuka Electronics)推出的 OPTM 系列显微薄膜厚度计,型号 OPTM-A3,是一款利用显微光谱技术测量微小区域绝对反射率,从而实现对薄膜厚度和光学常数进行高精度分析的光学测量设备。该产品覆盖近红外波段,特别适用于半导体、光学镀膜及
池田屋 OTSUKA/大塚电子 显微薄膜厚度计 OPTM-A3
池田屋 OTSUKA/大塚电子 显微薄膜厚度计 OPTM-A3
OTSUKA/大塚电子(Otsuka Electronics)推出的 OPTM 系列显微薄膜厚度计,型号 OPTM-A3,是一款利用显微光谱技术测量微小区域绝对反射率,从而实现对薄膜厚度和光学常数进行高精度分析的光学测量设备。该产品覆盖近红外波段,特别适用于半导体、光学镀膜及功能性薄膜在近红外波段的厚度与光学常数分析。测量每点仅需 1 秒,可实现高速非破坏性、非接触式检测。配备专用分析软件,即使初次使用者也能进行光学常数分析。
型号构成与测量规格
OPTM-A3 为近红外波段型号,测量波长范围为 900-1600nm。薄膜厚度测量范围基于 SiO₂ 计算为 16nm 至 92μm,较宽泛的厚度测量范围使其能够覆盖从纳米级薄膜到数十微米级厚膜的检测需求。光斑直径可选 φ5、φ10、φ20、φ40μm,可根据样品结构选择合适的光斑尺寸。样品台兼容最大尺寸为 200mm×200mm×17mm 的样品,支持 300mm 平台规格(需另行咨询)。
平台类型与机械规格
该系列提供三种平台配置:
自动 XY 平台型:外形尺寸 556mm×566mm×618mm,质量 66kg,适用于多点自动测量与膜厚分布 mapping 分析
固定框架型:外形尺寸 368mm×468mm×491mm,质量 38kg,适用于单点或少量样品常规测量
内置式头部:头部尺寸 210mm×441mm×474mm(质量 23kg),电源单元 90mm×250mm×190mm(质量 4kg),适用于集成到已有设备或产线中
自动 XY 平台型最大功耗为 AC100V±10V 500VA,固定框架型最大功耗为 AC100V±10V 400VA。
测量项目与应用
OPTM-A3 支持多种薄膜分析项目,包括:单层膜厚测量、多层膜厚测量、光学常数(n、k 值)分析、反射率光谱测量、膜厚分布 mapping 等。近红外波段(900-1600nm)特别适用于半导体材料(如硅、锗等)、ITO 透明导电膜、光学镀膜及功能性薄膜的厚度与光学特性分析。非破坏性、非接触式的测量方式使其适用于半导体晶圆、光学镀膜、平板显示及功能性薄膜等领域。
优势品牌:USHIO牛尾、TOPCON拓普康、AITEC艾泰克、FUNATECH船越龙、ORC欧阿西
SAGADEN嵯峨、SAKAZUME坂诘、DNP大日本科研、TOKYO DENSHOKU电色、KKIMAC
S-VANS斯万斯、ORIHARA折原、LUCEO鲁机欧、HIKARIYA光屋、YAMADA山田光学
AND艾安得、T&D天特、JIKCO吉高、DKK-TOA东亚电波、OKANO冈野
IMV艾目微、MITUTOYO三丰、KYOWA共和、ONOSOKKI小野、SANEI三荣
HEIDON新东、KURABO仓纺、SHOWA昭和、THINKY新基
SURUGA骏河、ACCRETECH東京精密、SANSYO三商、ITOH伊藤
RKC理化、MACOME码控美、EIWA荣和、EXCEL艾库斯、YODOGAWA淀川等