池田屋到货EYELA 真空气体替代炉 KDF-75Plus
池田屋到货EYELA 真空气体替代炉 KDF-75Plus池田屋到货EYELA 真空气体替代炉 KDF-75PlusEYELA 东京理化 KDF-75Plus 真空与气体替代炉,编号 276430,是一款集成真空抽取与炉内气氛置换功能的热处理设备,整机外形尺寸 460W×595D×482H,台式结构,可放置于实验台面开展试验,便于实验室布局规划。设备温度调节区间 100~1100℃,推荐常规使用温
池田屋到货EYELA 真空气体替代炉 KDF-75Plus池田屋到货EYELA 真空气体替代炉 KDF-75PlusEYELA 东京理化 KDF-75Plus 真空与气体替代炉,编号 276430,是一款集成真空抽取与炉内气氛置换功能的热处理设备,整机外形尺寸 460W×595D×482H,台式结构,可放置于实验台面开展试验,便于实验室布局规划。设备温度调节区间 100~1100℃,推荐常规使用温
池田屋到货EYELA 真空气体替代炉 KDF-75Plus
池田屋到货EYELA 真空气体替代炉 KDF-75Plus
EYELA 东京理化 KDF-75Plus 真空与气体替代炉,编号 276430,是一款集成真空抽取与炉内气氛置换功能的热处理设备,整机外形尺寸 460W×595D×482H,台式结构,可放置于实验台面开展试验,便于实验室布局规划。设备温度调节区间 100~1100℃,推荐常规使用温度为 1050℃,升温速度表现突出,空载条件下从 25℃升温至 1100℃仅需约 35 分钟,缩短单批次试验等待时长,提升试样处理效率。
设备核心特色在于真空与气体交替置换能力,可先对炉膛抽真空,再通入目标工艺气体,减少炉腔内部残留空气,降低高温下试样氧化、成分异变的概率,适配对气氛环境较为敏感的试样体系。机身面板集成流量调节组件、压力表与数显控制单元,气体流量、炉内压力、温度参数可直观查看并调节,便于操作人员按照工艺需求设定真空置换、通气、升温保温整套流程。
该机型适合需要多次置换炉内气氛的热处理工艺,在锂电材料前驱体煅烧、金属粉末退火、陶瓷粉体烧结、催化材料气氛焙烧、无机功能材料研发等方向都有应用空间。快速升温的特性,适合多批次小试样连续试验,配合气氛置换功能,可稳定营造低氧、惰性保护的炉内环境,减少外界空气对试样的干扰。
设备依托 EYELA 成熟的热处理设备设计思路,温控运行稳定,真空置换流程可控,适配高校材料实验室、新能源研发企业、精细化工研发部门。对于需要在真空、保护气氛条件下开展小批量试样热处理的研发工作,这款设备可以承接工艺摸索、配方对比等试验任务,为材料热处理工艺开发提供配套支撑。
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