到货原装Malema 超大流量浆料控制器CMFC-5032-F310-21PH

CMFC-5032-F310-21PH是针对大型半导体CMP产线研发的超大流量浆料控制设备，采用平行传感结构，可适配超高流速流体工况，有效抵消大流量流体紊流、介质物性波动带来的测量干扰，保障全量程区间测量稳定性。

设备标配耐磨夹管阀结构，专为大流量含颗粒浆料设计，耐受高频次颗粒冲刷，不易出现堵塞、卡滞问题，相较于传统控制阀，更适配CMP抛光液等高固含介质的连续输送工况。

设备流量覆盖400-4000g/min，可满足大型抛光设备的大流量浆料供给需求，控制精度维持设定值±1.5%，重复性误差稳定在±0.5%，保障整片晶圆抛光工艺的均匀性。设备调节响应迅速，可快速修正流量偏差，规避大流量工况下常见的流量超调、波动问题，提升制程良品率。接液材质采用高纯PFA搭配改性硅胶管路，耐磨损、无污染，低死区结构可减少浆料残留与固化，降低设备运维难度。

设备支持电压信号输入、电流信号输出，适配工业远程自动化控制，可实时上传流量数据、接收控流指令。设备适配车间常规温湿度环境，承压能力适配连续化工业生产，支持多方式安装。广泛应用于半导体大型CMP抛光生产线、大流量胶体药液输送系统，可替代传统泵送系统，实现大流量浆料精准、稳定、自动化管控，适配规模化半导体生产制程。

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