OSAKA VACUUM大阪真空

进口日本OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3300MI-B 磁悬浮涡轮分子泵

进口日本OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3300MI-B 磁悬浮涡轮分子泵进口日本OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3300MI-B 磁悬浮涡轮分子泵TGkine3300MI-B 为 TGkineMI-B 系列一体化磁悬浮涡轮分子泵,吸气接口可选 ISO-B320、VG300。氮气排气速度 3300L/s,加装金属保护网后 3100L/s,氢气排气速度 2700L/s

进口日本OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3300MI-B 磁悬浮涡轮分子泵


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TGkine3300MI-B 为 TGkineMI-B 系列一体化磁悬浮涡轮分子泵,吸气接口可选 ISO-B320、VG300。氮气排气速度 3300L/s,加装金属保护网后 3100L/s,氢气排气速度 2700L/s;氮气最大压缩比大于 1×10⁸,氢气压缩比大于 2×10⁷,极限压力低于 2×10⁻⁷Pa。最大氮气流量 2500sccm,氩气流量 1800sccm;启动时长≤11 分钟,停止时长≤13 分钟,允许辅助压力 110Pa,推荐前级泵≥2000L/min,ISO-B 版本重量 74kg,VG 版本 73kg。


设备搭载自研自加热结构,借助外部加热器配合泵内气体摩擦发热,对气体接触区域定向升温。区别于传统整体加热方式,可降低外部加热功率,规避多余热量影响泵核心组件,保持排气区域温度稳定,减少工艺反应生成物附着固化,拉长维护间隔。


适用半导体、FPD、MEMS 刻蚀设备,针对工艺过程易析出反应产物、高温挥发物料的真空场景。一体化控制器简化布线安装,磁悬浮结构运行平稳,大抽速规格可满足大型工艺腔体快速抽真空需求,持续稳定支撑刻蚀制程,降低因为沉积物带来的设备故障概率。


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