原装直销OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3800MI-B 涡轮分子泵
原装直销OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3800MI-B 涡轮分子泵原装直销OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3800MI-B 涡轮分子泵TGkine3800MI-B 为 TGkineMI-B 系列一体化磁悬浮涡轮分子泵,吸气接口可选 ISO-B320、VG300。氮气排气速度 3600L/s,加装金属保护网后 3400L/s,氢气排气速度 2700L/s;氮气最大压
原装直销OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3800MI-B 涡轮分子泵原装直销OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3800MI-B 涡轮分子泵TGkine3800MI-B 为 TGkineMI-B 系列一体化磁悬浮涡轮分子泵,吸气接口可选 ISO-B320、VG300。氮气排气速度 3600L/s,加装金属保护网后 3400L/s,氢气排气速度 2700L/s;氮气最大压
原装直销OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3800MI-B 涡轮分子泵
原装直销OSAKA VACUUM 大阪真空 TGkine3800MI-B 涡轮分子泵
TGkine3800MI-B 为 TGkineMI-B 系列一体化磁悬浮涡轮分子泵,吸气接口可选 ISO-B320、VG300。氮气排气速度 3600L/s,加装金属保护网后 3400L/s,氢气排气速度 2700L/s;氮气最大压缩比大于 2×10⁸,氢气压缩比大于 2×10⁷,极限压力低于 5×10⁻⁷Pa。最大氮气流量 2800sccm,氩气流量 2100sccm;启动时长≤12 分钟,停止时长≤14 分钟,允许辅助压力 100Pa,推荐前级泵≥2000L/min,ISO-B 版本重量 89kg,VG 版本 87kg。
主要适配半导体、FPD、MEMS 制造刻蚀设备,用于工艺会生成反应生成物、物料高温易挥发的真空工况。泵体与控制器集成一体,节省安装空间,磁悬浮轴承振动水平低,大抽速满足大型腔体真空需求。在半导体连续刻蚀产线中,减少沉积物造成的故障,保障真空环境稳定,提升设备稼动率。
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